傳函設(shè)備的原理是什么?傳函設(shè)備的原理構(gòu)成
相信廣大客戶(hù)朋友在使用全歐光學(xué)傳遞函數(shù)測(cè)量?jī)x的時(shí)候。對(duì)于原理性懵懵懂懂的概念,今天歐光科技針對(duì)相關(guān)內(nèi)容做一些總結(jié),以下就是作為總結(jié)性原理大綱,雖然很多時(shí)候沒(méi)必要去深究其內(nèi)在原理,但是了解相關(guān)原理后,能更好地服務(wù)我們的工作,大家一起來(lái)看看吧。
一、對(duì)比度
我們知道,一幅圖像有亮暗程度之分,對(duì)比度就是用來(lái)描述光強(qiáng)最亮處與光強(qiáng)最暗處的比例關(guān)系:
M=(Imax-Imin)/(Imax+Imin)
這樣我們就可以順理成章的將物體理解為具有明暗特征的對(duì)象,從物理意義上即可以認(rèn)為是各種頻率的譜組成了一個(gè)物體,這樣我們就可以通過(guò)傅里葉變換將物體的明暗分布展開(kāi)為相應(yīng)的級(jí)數(shù)或者積分,相信大家對(duì)傅里葉變換的朦朧的概念可能就停留在正余弦周期變換的函數(shù),沒(méi)錯(cuò)的,事實(shí)上,我們就可以簡(jiǎn)單的將光學(xué)系統(tǒng)對(duì)各種頻率的正余弦信號(hào)的傳遞能力稱(chēng)之為光學(xué)傳遞函數(shù),但請(qǐng)注意是光學(xué)傳遞函數(shù)。
二、空間不變線性系統(tǒng)
所謂線性系統(tǒng)是指能夠滿(mǎn)足“疊加原理”的系統(tǒng),即對(duì)系統(tǒng)輸入N個(gè)激勵(lì)函數(shù),則系統(tǒng)輸出N個(gè)響應(yīng)函數(shù);如果把N個(gè)激勵(lì)函數(shù)相疊加后輸入到系統(tǒng)中,由系統(tǒng)輸出的是與之相應(yīng)的N個(gè)響應(yīng)函數(shù)的疊加。滿(mǎn)足線性條件的系統(tǒng),其像平面上任一點(diǎn)處的光強(qiáng)度g(x,y)可以看作是物平面上每一點(diǎn)處的光強(qiáng)度f(wàn)(x’,y’)在像平面(x,y)處所形成的光強(qiáng)的疊加。可用下式表示:
光學(xué)設(shè)備系統(tǒng)的空間不變性是指物面上不同的物點(diǎn)在像面上有相同形狀的光能分布,用隱式函數(shù)表達(dá)如下:
h(x0,y0;x,y)=h(x-x0,y-y0)
雖然光學(xué)系統(tǒng)在不同視場(chǎng)會(huì)有不同的像差,但對(duì)經(jīng)過(guò)像差校正的光學(xué)系統(tǒng),像差隨視場(chǎng)的變化是緩慢的,像面上總可以劃出許多稱(chēng)為“等暈區(qū)”的小區(qū)域,在每個(gè)等暈區(qū)內(nèi)光學(xué)系統(tǒng)為空間不變線性系統(tǒng)。
若物面分布函數(shù)為w(x0,y0),并假定物面上各亮點(diǎn)是非相干的,各個(gè)亮點(diǎn)經(jīng)光學(xué)系統(tǒng)后的光強(qiáng)分布,即點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)
依據(jù)上述描述,像面上的光強(qiáng)分布可歸結(jié)為下述隱式函數(shù):
令i(x,y)、w(x,y)、h(x,y)經(jīng)過(guò)傅里葉變換后分別為I(s,t)、W(s,t)、H(s,t),根據(jù)傅里葉變換理論中的定律可知:
I(s,t)=W(s,t)*H(s,t)*
上式表明,一個(gè)任意的非相干的光強(qiáng)分布w(x,y),可以看作是各種空間顏率的正余弦光強(qiáng)度分布的組合。每個(gè)正余弦分量W(s,t)稱(chēng)為物面分布函數(shù)w(x,y)中頻率為(s,t)的譜。光學(xué)系統(tǒng)對(duì)w(x,y)成像的過(guò)程,就是將w(x,y)中的每一正余弦分量W(s,t)乘上一個(gè)相應(yīng)的因子H(s,t), 構(gòu)成像面分布函數(shù)i(x,y)的對(duì)應(yīng)正余弦分量I(s,t),即像i(x,y)的譜。H(s,t)反映了光學(xué)系統(tǒng)對(duì)各種正余弦分量的傳遞特性。因此,光學(xué)系統(tǒng)的成像特性完全由H(s,t)反映出來(lái),稱(chēng)為光學(xué)傳遞函數(shù)(Optical TransferFunction, OTF)。顯然,它也可以用一個(gè)復(fù)函數(shù)形式來(lái)表示:
H(s,t)=T(s,t)*exp(-i*theta(s,t))
式中,T(s,t)表示調(diào)制傳遞函數(shù),為光學(xué)傳遞函數(shù)的模,即我們熟知的MTF,theta(s,t)表示相位傳遞函數(shù),為光學(xué)傳遞函數(shù)的輻角。
三、傳函儀設(shè)備的構(gòu)成
主體部分由一個(gè)離軸二反射結(jié)構(gòu)組成一個(gè)大倍率的平行光管,將狹縫像擴(kuò)展到無(wú)窮遠(yuǎn)的位置,用于待測(cè)光學(xué)系統(tǒng)來(lái)接收,并成像到設(shè)備的CCD中,CCD探測(cè)器采集到的帶有原始數(shù)據(jù)和噪聲的圖像信號(hào)數(shù)字化然后進(jìn)行去噪處理得到線擴(kuò)散函數(shù)LSF,再對(duì)處理過(guò)的LSF進(jìn)行傅里葉變換取模得到包括目標(biāo)物在內(nèi)的整個(gè)系統(tǒng)的MTF,最后對(duì)影響因素進(jìn)行修正得到最終被測(cè)光電成像系統(tǒng)的MTF。
狹縫可看做矩形函數(shù)
f(x)=1/d*rect(x/d)
d為狹縫寬度,經(jīng)過(guò)傅里葉變換后為sinc函數(shù):
F(v)=sin(pi*d*v)/pi*d*v=sinc(d*v)*
設(shè)系統(tǒng)橫向放大率為β,將系統(tǒng)MTF曲線統(tǒng)一到像面,則狹縫寬度對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響為:
G(v)=sin(pi*β*d*v)/pi*β*d*v=sinc(β*d*v)
理論上講狹縫的寬度越窄越好,但隨著狹縫寬度變窄,透過(guò)它的能量減弱,信噪比降低,影響MTF測(cè)試精度,因此狹縫寬度不能太窄,即計(jì)算的系統(tǒng)MTF要除G(v)對(duì)狹縫寬度影響進(jìn)行修正。由式G(v)可見(jiàn),空間頻率的第一個(gè)零點(diǎn)位置在1/β*d處,縫的寬度越大,零點(diǎn)位置則越向低頻靠近。系統(tǒng)的極限分辨率Rmax。由于結(jié)果修正要除以G(v),所以只有當(dāng)Rmax在零點(diǎn)的左側(cè),修正才有意義。即需要滿(mǎn)足:*
Rmax<1/β*d*
即:d<1/β*Rmax=(f儀/f待測(cè))/Rmax,狹縫法測(cè)試時(shí)狹縫寬度選取要滿(mǎn)足此條件。
四、采樣定理
采樣定理,又稱(chēng)香農(nóng)采樣定理,奈奎斯特采樣定理,是信息論,特別是通訊與信號(hào)處理學(xué)科中的一個(gè)重要基本結(jié)論。在進(jìn)行模擬/數(shù)字信號(hào)的轉(zhuǎn)換過(guò)程中,當(dāng)采樣頻率fs.max大于信號(hào)中最高頻率fmax的2倍時(shí)(fs.max>=2fmax),采樣之后的數(shù)字信號(hào)完整地保留了原始信號(hào)中的信息,一般實(shí)際應(yīng)用中保證采樣頻率為信號(hào)最高頻率的5~10倍;對(duì)應(yīng)到光敏傳感器上,即對(duì)應(yīng)光信號(hào)應(yīng)至少在兩個(gè)像元內(nèi),才能保證圖像不失真的進(jìn)行輸出,假設(shè)對(duì)應(yīng)3.45um像元,計(jì)算其奈奎斯特頻率為:
R_N=1/2*pixel=1/(3.45*2)=145lp/mm*
衍射極限頻率根據(jù)瑞利判據(jù),即當(dāng)兩個(gè)斑點(diǎn)剛好能分辨的極限,計(jì)算公式為:
R_diff=1/(1.22*中心波長(zhǎng)*F#)*
截止頻率,即縱坐標(biāo)值為零對(duì)應(yīng)的空間頻率,計(jì)算公式為:
R_cutoff=1/pixel_
大家應(yīng)注意區(qū)分這三種頻率,定義是不一樣的。
▍最新資訊
-
MIT突破光電芯片封裝技術(shù)難題:引領(lǐng)下一代計(jì)算與通信產(chǎn)業(yè)變革
在全球數(shù)據(jù)流量呈指數(shù)級(jí)增長(zhǎng)的背景下,如何實(shí)現(xiàn)光子芯片與電子芯片在單一封裝內(nèi)的高效集成,已成為制約下一代計(jì)算與通信技術(shù)規(guī)?;l(fā)展的核心議題。麻省理工學(xué)院(MIT)材料科學(xué)與工程系ThomasLord講席教授、微光子學(xué)中心主任LionelKimerling指出:“在單一封裝內(nèi)達(dá)成光子學(xué)與電子學(xué)的集成,其戰(zhàn)略意義堪比21世紀(jì)的‘晶體管’技術(shù)。若無(wú)法攻克這一核心挑戰(zhàn),該領(lǐng)域的大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程將無(wú)從推進(jìn)?!睘閼?yīng)對(duì)此挑戰(zhàn),MIT新組建了由美國(guó)國(guó)家科學(xué)基金會(huì)資助的FUTUR-IC研究團(tuán)隊(duì),項(xiàng)目負(fù)責(zé)人、MIT材料研究實(shí)驗(yàn)室首席研究科學(xué)家AnuAgarwal明確表示:“團(tuán)隊(duì)的核心目標(biāo)是構(gòu)建資源高效的微芯片產(chǎn)業(yè)價(jià)值鏈,為行業(yè)發(fā)展提供底層技術(shù)支撐。”
2025-08-29
-
超精密光學(xué)鏡片的關(guān)鍵制備環(huán)節(jié):精密光學(xué)鍍膜技術(shù)的核心價(jià)值與應(yīng)用分析
在超精密光學(xué)鏡片的全生命周期制造流程中,材料篩選構(gòu)建基礎(chǔ)性能、精密加工保障幾何精度、專(zhuān)業(yè)測(cè)試驗(yàn)證產(chǎn)品質(zhì)量,而光學(xué)鍍膜作為最終工序,堪稱(chēng)實(shí)現(xiàn)鏡片性能躍升的“關(guān)鍵一躍”。該工序并非簡(jiǎn)單的表面覆蓋處理,而是通過(guò)在原子尺度上精準(zhǔn)調(diào)控膜層厚度、材料組成及微觀結(jié)構(gòu),使加工完成的基片滿(mǎn)足最終光學(xué)系統(tǒng)對(duì)超高透射率、超高反射率、特定分光比及極端環(huán)境穩(wěn)定性等核心指標(biāo)的要求。當(dāng)前,超精密光學(xué)鍍膜技術(shù)已形成多技術(shù)路徑并行發(fā)展的格局,各技術(shù)體系在性能、成本及應(yīng)用場(chǎng)景上各具特色,共同支撐航空航天、量子科技、高端制造等領(lǐng)域的技術(shù)突破。
2025-08-29
-
什么是水復(fù)合激光加工技術(shù)?高端制造領(lǐng)域熱損傷難題的創(chuàng)新解決方案
水復(fù)合激光加工技術(shù)以水為核心輔助介質(zhì),通過(guò)“冷卻-沖刷-導(dǎo)光”的多機(jī)制協(xié)同作用,構(gòu)建了三類(lèi)差異化技術(shù)體系,為精密制造領(lǐng)域提供了覆蓋“經(jīng)濟(jì)實(shí)用”至“高精度高效能”的全場(chǎng)景技術(shù)方案,對(duì)推動(dòng)高端制造業(yè)高質(zhì)量發(fā)展具有重要意義。
2025-08-29
-
水導(dǎo)激光加工碳化硅高深徑比微孔的技術(shù)研究與工藝優(yōu)化
碳化硅作為一種具備高硬度、高耐磨性及優(yōu)異熱學(xué)、電學(xué)性能的先進(jìn)材料,在航空航天、半導(dǎo)體器件、新能源裝備等高端制造領(lǐng)域應(yīng)用前景廣闊。然而,其硬脆特性使得高深徑比微孔(深徑比≥10:1)加工面臨嚴(yán)峻挑戰(zhàn),傳統(tǒng)加工工藝如機(jī)械鉆孔、電火花加工、超聲加工等,普遍存在刀具磨損嚴(yán)重、加工精度低、表面質(zhì)量差或加工效率不足等問(wèn)題,難以滿(mǎn)足高端領(lǐng)域?qū)μ蓟栉⒖讟?gòu)件的嚴(yán)苛要求。在此背景下,水導(dǎo)激光加工技術(shù)融合激光高能量密度與水射流冷卻排屑的雙重優(yōu)勢(shì),為突破碳化硅微孔加工瓶頸提供了創(chuàng)新技術(shù)路徑,相關(guān)工藝參數(shù)的優(yōu)化研究對(duì)推動(dòng)該技術(shù)產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用具有重要意義。
2025-08-28