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突破6G通信技術(shù)瓶頸:金屬摻雜VO?超表面實(shí)現(xiàn)太赫茲調(diào)制性能與速率的協(xié)同優(yōu)化

    在第六代移動通信(6G)技術(shù)加速研發(fā)的進(jìn)程中,太赫茲波段(0.110THz)憑借其超大帶寬潛力,成為支撐超高速、大容量通信的核心技術(shù)方向。然而,太赫茲調(diào)制器長期面臨“性能與速率難以兼顧”的技術(shù)困境。近日,西安電子科技大學(xué)研究團(tuán)隊(duì)在《Photonics》期刊發(fā)表的成果,通過金屬摻雜VO?超表面的創(chuàng)新設(shè)計(jì),成功破解這一矛盾,為太赫茲通信的實(shí)用化推進(jìn)提供了關(guān)鍵技術(shù)支撐。

 

屬摻雜VO?超表面實(shí)現(xiàn)太赫茲調(diào)制性能


    太赫茲調(diào)制的核心矛盾:性能與速率的固有沖突
    太赫茲波的獨(dú)特優(yōu)勢在于其遠(yuǎn)超5G系統(tǒng)的帶寬能力,理論上可實(shí)現(xiàn)每秒數(shù)百GB的傳輸速率,是6G通信突破容量瓶頸的核心載體。而調(diào)制器作為太赫茲通信系統(tǒng)的關(guān)鍵器件,需實(shí)現(xiàn)對太赫茲波幅度、頻率或相位的精準(zhǔn)調(diào)控,其性能直接決定通信系統(tǒng)的整體表現(xiàn)。
    當(dāng)前,氧化釩(VO?)因可通過光或電激勵在絕緣態(tài)與金屬態(tài)間快速切換,成為太赫茲調(diào)制器的主流活性材料。但該材料存在固有矛盾:
    高調(diào)制性能(如深度調(diào)制、窄帶寬特性)要求VO?激發(fā)后具備高電導(dǎo)率(載流子密度高);
    高調(diào)制速率(快速切換能力)則依賴低電導(dǎo)率(載流子恢復(fù)速度快);
    更突出的問題是,實(shí)際制備的VO?薄膜難以達(dá)到理論高電導(dǎo)率(3×10?S/m),且高電導(dǎo)率會顯著降低材料響應(yīng)速度,進(jìn)一步加劇性能與速率的沖突。
    這種技術(shù)矛盾長期制約著太赫茲調(diào)制器的實(shí)用化進(jìn)程。


    金屬摻雜的等效增強(qiáng)機(jī)制:結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)破解材料局限
    西安電子科技大學(xué)團(tuán)隊(duì)的創(chuàng)新突破在于,從結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)層面重構(gòu)VO?的導(dǎo)電特性,提出金屬摻雜活性材料開關(guān)概念。其核心原理是在VO?開關(guān)中嵌入金屬貼片,利用金屬的高導(dǎo)電性“短路”部分VO?電阻,通過面積比例調(diào)控實(shí)現(xiàn)等效電導(dǎo)率的放大。
    該機(jī)制的數(shù)學(xué)表達(dá)為:


    公式


    其中,Sswitch為VO?開關(guān)總面積,SdopedMetal為金屬貼片面積。這一設(shè)計(jì)使得即便VO?實(shí)際電導(dǎo)率較低,通過優(yōu)化金屬貼片覆蓋比例,仍可等效獲得高電導(dǎo)率的性能效果。


    超表面的具體結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)體現(xiàn)了精密的工程思維:
    基底采用藍(lán)寶石(介電常數(shù)11.5),并覆蓋聚酰亞胺匹配層以抑制反射損耗;
    共振單元由切割線諧振器(CWR)與分裂環(huán)諧振器(SRR)構(gòu)成,通過電磁誘導(dǎo)透明(EIT)效應(yīng)形成精準(zhǔn)調(diào)制的物理基礎(chǔ);
    獨(dú)立金屬網(wǎng)格網(wǎng)絡(luò)負(fù)責(zé)電控激勵,避免與共振單元產(chǎn)生耦合干擾,保障調(diào)控穩(wěn)定性。
    金屬貼片精準(zhǔn)覆蓋VO?中心區(qū)域,既借助金屬導(dǎo)電性提升等效性能,又保留邊緣VO?區(qū)域以確保光/電激勵有效性,實(shí)現(xiàn)了“低實(shí)際電導(dǎo)率”與“高等效性能”的協(xié)同。


    性能驗(yàn)證:低電導(dǎo)率條件下的突破性表現(xiàn)
    仿真結(jié)果表明,該設(shè)計(jì)展現(xiàn)出優(yōu)異的技術(shù)性能:當(dāng)VO?激發(fā)后電導(dǎo)率僅為3×10?S/m(約為理論值的1/10)時,其等效效果可達(dá)到6×10?S/m高電導(dǎo)率材料的水平,具體表現(xiàn)為:
    振幅調(diào)制方面,VO?未激發(fā)時,EIT窗口帶寬為0.058THz,品質(zhì)因數(shù)Q=2.37;激發(fā)后帶寬擴(kuò)展至0.112THz,調(diào)制深度高達(dá)91.6%;
    數(shù)字編碼能力上,通過調(diào)控VO?電導(dǎo)率可實(shí)現(xiàn)2比特編碼(00/01/10/11),為太赫茲通信的信號傳輸提供了靈活的編碼方案;
    兼容性與可制造性方面,該超表面同時支持光控與電控模式,且對金屬VO?的對準(zhǔn)誤差具有強(qiáng)魯棒性,降低了制備工藝要求。


    從實(shí)驗(yàn)室到6G應(yīng)用:前景與挑戰(zhàn)
    此項(xiàng)研究不僅突破了太赫茲調(diào)制的技術(shù)瓶頸,更構(gòu)建了超表面設(shè)計(jì)的新范式,未來有望在多領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)應(yīng)用落地:
    通信領(lǐng)域:支撐6G太赫茲基站實(shí)現(xiàn)超高速、大容量信息傳輸;
    成像與傳感領(lǐng)域:推動動態(tài)波束成形、可編程全息等技術(shù)向高精度方向發(fā)展;
    材料拓展領(lǐng)域:團(tuán)隊(duì)計(jì)劃探索鍺銻碲(GST)等其他活性材料的摻雜潛力,進(jìn)一步拓寬技術(shù)應(yīng)用邊界。


    值得注意的是,該技術(shù)的實(shí)用化仍需克服系列挑戰(zhàn),如與現(xiàn)有太赫茲收發(fā)器芯片的集成適配、大規(guī)模制備成本的降低等。但可以預(yù)見,隨著“智能超表面”技術(shù)的持續(xù)成熟,這類納米級太赫茲調(diào)控器件有望逐步融入終端設(shè)備與通信基礎(chǔ)設(shè)施,推動6G通信從理論研究邁向?qū)嶋H應(yīng)用。

創(chuàng)建時間:2025-07-31 14:08
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